PTTC, PTCP-Serie
Präzise Kalibrierungsmuster für die Bildverarbeitung
Das PT120-240-Kalibrierungsmuster wurde durch PT120-144 für FOVs bis zu 170 x 140 mm und durch PT192-240 für FOVs bis zu 260 x 200 mm ersetzt.
Jedes Bildverarbeitungsobjektiv (ob telezentrisch oder nicht) weist eine gewisse Verzeichnung auf. Zusätzlich zur tonnen- oder kissenförmigen Verzeichnung beeinträchtigen Änderungen des Blickwinkels oder falsch ausgerichtete Komponenten die Bildsymmetrie und erzeugen die so genannte Trapez- oder Keystone-Verzerrung.
Bei Bildgebungs- und Messanwendungen ist oft eine Minimierung der Verzerrung erforderlich. Diese Korrektur kann per Software erfolgen, indem das Bild eines Präzisionsmusters analysiert wird, dessen geometrische Merkmale genau bekannt sind.Aus diesem Grund bietet Opto Engineering® ein komplettes Sortiment an Mustern an, die für die Software-Kalibrierung
optimiert und mit den meisten telezentrischen Objektiven von Opto Engineering® kompatibel sind.
Die Schachbrettmuster werden mit zwei verschiedenen Verfahren hergestellt, um je nach Anforderung die beste Lösung zu bieten:
- Chrom-auf-Glas, für anspruchsvolle Anwendungen;
- Emulsion-auf-Glas, für eine optimale Kombination von Leistung und Kosteneffizienz.
Darüber hinaus ist eine zertifizierte Version erhältlich: Die für die Kalibrierung verwendeten Standards und Geräte wurden gemäß den in der ISO/IEC 17025-2005 und ANSI/NCSL Z540-1-1994 festgelegten Verfahren rückführbar auf das National Institute of Standards and Technology (N.I.S.T.) kalibriert.
Hinweise
- Die Klassifizierung (2*) für film-on-glass Fotomasken unterscheidet sich überlicherweise von der chrome-on-glass. Die technischen Daten finden Sie in der Tabelle auf der nächsten Seite.
- Download CoC Format Pattern facsimile
Die Größenabweichung der Pattern kann wie nachstehend dargestellt berechnet werden:
Beispiel für eine Größenabweichung für ein Klasse-2-Pattern auf einer Länge von 10 mm:
Maßtoleranz = ± 0.0016mm + (±0.000008mm x 10 mm) = ± 0.00168 mm
Für Chrome auf Glas Photomasken | |||
---|---|---|---|
Klassifizierung | Min herstellbare dimensionen; Min Abstand(µm) | Positionierungsfehler (µm) | Geschwindigkeitsfaktor (µm/mm) |
1 | 1.4 | 6.4 | 0.016 |
2 | 0.8 | 1.6 | 0.008 |
3 | 0.4 | 0.6 | 0.004 |
4 | 0.2 | 0.2 | 0.001 |
For Film Photomask | |||
---|---|---|---|
Klassifizierung | Min herstellbare dimensionen; Min Abstand(µm) | Positionierungsfehler (µm) | Geschwindigkeitsfaktor (µm/mm) |
1 | 9.6 | 9.6 | 0.015 |
2 | 4.8 | 9.6 | 0.015 |
3 | 2.4 | 9.6 | 0.015 |
4 | 1.2 | 9.6 | 0.015 |